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    Title: 利用磁控濺鍍製備透明導電銦鋅氧化物薄膜特性研究
    Authors: 劉晉平
    Contributors: 光電與通訊學系
    Keywords: 磁控濺鍍系統;銦鋅氧化物;透明導電薄膜;極圖
    Date: 2015
    Issue Date: 2015-10-08 09:39:04 (UTC+8)
    Publisher: 亞洲大學
    Abstract: 磁控濺鍍系統 (Magnetron sputter system) 不僅濺鍍速率快,其濺鍍速率穩定且具有鍍膜均勻性等特性,因此被廣泛應用在製備大面積薄膜上,而本論文目的是利用磁控濺鍍系統,在玻璃基板上成長銦鋅氧化物 (Indium Zinc Oxide, IZO) 透明導電薄膜,並探討此薄膜在不同製程條件下,電性與光學特性的改變情形。我們改變氧氣流量、氬氣流量、製程壓力、沉積後退火溫度,並觀察這些參數對薄膜進行光學、電性及微觀結構分析分別有X-Ray繞射儀、原子力顯微鏡、拉曼光譜儀、四點探針、霍爾量測、紫外光-可見光光學儀、極圖、橢圓儀、穿透式電子顯微鏡,並找出最佳的導電性以及透光率。

    在IZO製程中我們先改變氧氣含量,電阻率最低可達0.83×100 Ω•cm,透光度約83 %,在XRD分析中可以看見In2O3 (222) 的結晶相。接著改變氬氣含量電阻率最低可達5.47×10-3 Ω•cm,透光度約80 %,在XRD分析中為非結晶的情形。最後改變製程壓力電阻率最低可達7.88×10-4 Ω•cm,透光度約81 %,在XRD分析中仍然呈現非結晶。
    Appears in Collections:[光電與通訊學系] 博碩士論文

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